氧化處理工藝流程：除油（化學除油、電解除油）、除銹、氧化、涂保護膜（油脂或?qū)Ｓ帽Ｗo劑），工藝間應有清洗工序。
氧化過程中不需通電（但需加熱，一般150度左右）。
氧化后所得膜層為黑色（與材料成分有關(guān)）。具有輕微耐蝕必性，但對可提高消光能力。
物質(zhì)失電子的作用叫氧化；相反的，得電子的作用叫還原。狹義的氧化反應指物質(zhì)與氧化合；還原反應指物質(zhì)失去氧的作用。氧化時氧化值升高；還原時氧化值降低。氧化、還原都指反應物（分子、離子或原子）。
氧化膜的生成機理 ：
在硫酸電解液中陽極氧化，作為陽極的鋁制品，在陽極化初始的短暫時間內(nèi)，其表面受到均勻氧化，生成極薄而有非常致密的膜，由于硫酸溶液的作用，膜的最弱點（如晶界，雜質(zhì)密集點，晶格缺陷或結(jié)構(gòu)變形處）發(fā)生局部溶解，而出現(xiàn)大量孔隙。
即原生氧化中心，使基體金屬能與進入孔隙的電解液接觸，電流也因此得以繼續(xù)傳導，新生成的氧離子則用來氧化新的金屬，并以孔底為中心而展開，最后匯合，在舊膜與金屬之間形成一層新膜，使得局部溶解的舊膜如同得到“修補”似的。
隨著氧化時間的延長，膜的不斷溶解或修補，氧化反應得以向縱深發(fā)展，從而使制品表面生成又薄而致密的內(nèi)層和厚而多孔的外層所組成的氧化膜。其內(nèi)層（阻擋層、介電層、活性層）厚度至氧化結(jié)束基本都不變，位置卻不斷向深處推移；而外早一定的氧化時間內(nèi)隨時間而增厚。
